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上海辰(chén)華(huá)CHI400C係列(liè)電(diàn)化(huà)學(xué)石(shí)英晶體微(wēi)天(tiān)平

簡要(yào)描述(shù):上(shàng)海辰(chén)華CHI400C是CH Instruments與武漢大學合作的(dí)產品(pǐn)。石英(yīng)晶體微天平(píng)(QCM)可進行(háng)靈(líng)敏(mǐn)的(dí)質(zhì)量測(cè)量。在適(shì)當(dāng)的條(tiáo)件下,上(shàng)海辰(chén)華CHI400C係(xì)列(liè)電化(huà)學(xué)石英晶體(tǐ)微(wēi)天平(píng)石英晶體上沉(chén)積的(dí)質(zhì)量(liáng)變化(huà)和振動頻率(shuài)移動(dòng)之(zhī)間關係呈簡單的(dí)綫性關係(Sauerbrey公式):

產(chǎn)品型(xíng)號(hào):

所屬分類:上(shàng)海(hǎi)辰華電(diàn)化(huà)學(xué)工(gōng)作(zuò)站

更新(xīn)時間:2023-08-03

廠(chǎng)商性質:經(jīng)銷商(shāng)

詳(xiáng)情(qíng)介(jiè)紹(shào)
品牌其(qí)他品(pǐn)牌價(jià)格(gé)區間麵議
儀(yí)器(qì)種(zhǒng)類(lèi)國產(chǎn)應用領域(yù)醫療(liáo)衛生(shēng),化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子(zǐ)/電池

上海(hǎi)辰(chén)華(huá)CHI400C係列電(diàn)化學石(shí)英(yīng)晶(jīng)體(tǐ)微天平(píng)產品介紹(shào):

CHI400C係列(liè)時間分(fēn)辨(biàn)電(diàn)化(huà)學(xué)石(shí)英晶(jīng)體微(wēi)天平(píng)(EQCM)是CH Instruments與(yǔ)武(wǔ)漢(hàn)大學(xué)合(hé)作(zuò)的產品(pǐn)。石英晶(jīng)體微天(tiān)平(QCM)可進行(háng)靈敏的(dí)質(zhì)量(liáng)測量(liáng)。在(zài)適當的條件下(xià),石(shí)英(yīng)晶體上(shàng)沉(chén)積的質量變化和振(zhèn)動頻(pín)率移(yí)動之間關(guān)係呈(chéng)簡(jiǎn)單(dān)的(dí)綫性(xìng)關係(Sauerbrey公式):

Df = -2fo2 Dm / [A · sqrt(mr)]

式中(zhōng)是fo晶體(tǐ)的基(jī)本諧(xié)振(zhèn)頻率,A是(shì)鍍(dù)在(zài)晶(jīng)體(tǐ)上(shàng)金(jīn)盤(pán)的麵(miàn)積(jī),r是(shì)晶體的密度(dù)(=2.684g/cm3),m是(shì)晶(jīng)體切變係數(= 2.947´1011 g/cm·s2)。對(duì)於(yú)我(wǒ)們的(dí)晶體(tǐ)(fo = 7.995MHz, A = 0.196 cm2),每赫茲(zī)的(dí)頻(pín)率改變相(xiāng)當(dāng)於1.34 ng。QCM和EQCM被(bèi)廣泛應用於金屬沉(chén)積,高(gāo)分子(zǐ)膜中(zhōng)離子(zǐ)傳遞,生(shēng)物傳感(gǎn)器,以(yǐ)及(jí)吸附解(jiě)吸動力(lì)學的(dí)研究等等(děng)。


上(shàng)海辰華CHI400C係(xì)列電化學石英晶(jīng)體微天平(píng)含(hán)石英(yīng)晶(jīng)體(tǐ)振蕩器(qì),頻率(shuài)計數(shù)器,快速(sù)數(shù)字信(xìn)號發(fā)生器(qì),高(gāo)分辨高速數據采(cǎi)集係統(tǒng),電位電流信號濾波器,信(xìn)號增益,iR降(jiàng)補償(cháng)電路(lù),以及(jí)恒電(diàn)位儀/恒電(diàn)流儀(440C)。電(diàn)位範圍為±10V,電(diàn)流範圍(wéi)為±250mA。電(diàn)流測量(liáng)下限低(dī)於(yú)50pA。石英晶體(tǐ)微(wēi)天(tiān)平(píng)和(hé)恒電位儀(yí)/恒(héng)電流儀集成使得(dé)EQCM測量(liáng)變(biàn)得(dé)十分簡單(dān)方便。CHI400C係列(liè)采(cǎi)用(yòng)時間(jiān)分辨(biàn)的方(fāng)式測(cè)量頻率的(dí)改(gǎi)變(biàn)。傳統的(dí)方法是(shì)采用頻(pín)率直接(jiē)計(jì)數的(dí)方法(fǎ),要(yào)得到1Hz的QCM分(fēn)辨率,需(xū)要1秒的采樣(yàng)時(shí)間。要得到0.1Hz的(dí)QCM分(fēn)辨率(shuài),需(xū)要10秒的采樣時間(jiān)。我(wǒ)們(mén)是將QCM的(dí)頻率和(hé)一(yī)標(biāo)準(zhǔn)頻(pín)率(shuài)的差值(zhí)作(zuò)周期測量,從(cóng)而(ér)大(dà)大縮(suō)短了采樣(yàng)時間,提(tí)高(gāo)了(liǎo)時(shí)間分(fēn)辨。我們(mén)可(kě)在毫(háo)秒級(jí)的時間裏(lǐ)得(dé)到(dào)1Hz或(huò)0.1Hz或更好的(dí)頻率分辨。當(dāng)和循環伏安(ān)法(fǎ)結合(hé)時,可(kě)允許(xǔ)在0.5V/s的掃描(miáo)速(sù)度下(xià)獲(huò)得QCM的(dí)信號。這對需(xū)要較快(kuài)速(sù)的測量(liáng)(例(lì)如(rú)動力學測量)尤為重(zhòng)要。允(yǔn)許(xǔ)與(yǔ)QCM結合(hé)的電(diàn)化學(xué)實驗(yàn)技術(shù)包括CV,LSV,CA,i-t,CP。


400C係(xì)列在(zài)測量QCM頻率變(biàn)化的(dí)同時,還(huán)能(néng)測(cè)量晶體諧(xié)振(zhèn)網(wǎng)絡的電阻變(biàn)化。


400C係列(liè)也(yě)是相當快速的儀(yí)器(qì)。信號發(fā)生(shēng)器(qì)的更(gēng)新速率(shuài)為10MHz,數據(jù)采集(jí)速率為1MHz。循(xún)環(huán)伏安(ān)法的(dí)掃描速(sù)度為(wéi)1000V/s時(shí),電位(wèi)增(zēng)量(liáng)僅(jǐn)0.1mV。又如(rú)交流伏(fú)安法的(dí)頻率可達(dá)10KHz。儀器可(kě)工(gōng)作於二(èr),三(sān),或四電(diàn)的方式。四(sì)電(diàn)對(duì)於大(dà)電流或低阻抗電解(jiě)池(例(lì)如電池)十(shí)分(fēn)重要,可消(xiāo)除由於(yú)電(diàn)纜和(hé)接(jiē)觸(chù)電(diàn)阻(zǔ)引(yǐn)起(qǐ)的測量誤(wù)差。由於儀器集(jí)成(chéng)了(liǎo)多種常用(yòng)的電化學測量技(jì)術(shù),使得儀器(qì)可(kě)用(yòng)作(zuò)通用(yòng)電化學測量(liáng),也(yě)可單(dān)獨用(yòng)作(zuò)石英(yīng)晶(jīng)體(tǐ)微天平(píng)的(dí)測量(liáng)(不(bù)同時進(jìn)行(háng)電(diàn)化學測量)。


CHI400C係列EQCM還包(bāo)括(kuò)一個特殊設計的電解池,如(rú)圖(tú)1(a)所(suǒ)示(shì)。電(diàn)解池由(yóu)三(sān)塊圓(yuán)形的(dí)聚四(sì)氟乙烯(xī)組成。直(zhí)徑為(wéi)35mm,總高度為(wéi)37mm。上(shàng)麵的(dí)是(shì)蓋(gài)子,用(yòng)於安裝參(cān)比電(diàn)和對。中間的是(shì)用於(yú)放溶液的池體。石英晶體被固定(dìng)於中間和底(dǐ)下(xià)的(dí)部(bù)件之(zhī)間(jiān),通(tōng)過橡膠(jiāo)圈密封,並(bìng)用(yòng)螺絲(sī)固定。石(shí)英(yīng)晶(jīng)體的直徑為13.7mm,晶體兩(liǎng)麵(miàn)的中間鍍(dù)有5.1mm直(zhí)徑的金盤電(其它電材(cái)料需特(tè)殊定(dìng)做(zuò))。新晶體的諧(xié)振頻率是7.995 MHz。


硬件參數(shù)指標:

恒(héng)電(diàn)位(wèi)儀(yí)

恒電(diàn)流儀 (Model440C)

電(diàn)位範圍: -10to10V

電位上升時間:<2微(wēi)秒

槽壓(yā): ±12V

三電或四(sì)電設(shè)置

電(diàn)流(liú)範圍: 250mA

參比電(diàn)輸(shū)入阻(zǔ)抗: 1´1012歐姆

靈敏度(dù): 1´10-12-0.1A/V共12檔量程

輸(shū)入(rù)偏置電流(liú):<50pA

電(diàn)流(liú)測量分(fēn)辨率:<1pA

CV的(dí)小電位增(zēng)量: 0.1mV

電位(wèi)更(gēng)新(xīn)速(sù)率: 10MHz

數(shù)據(jù)采(cǎi)集(jí): 16位分辨@1MHz

自(zì)動及手動(dòng)iR降補償(cháng)

CV和LSV掃(sǎo)描速(sù)度: 0.000001-5000V/s

電位掃(sǎo)描(miáo)時電位(wèi)增量(liáng): 0.1mV@1000V/s

CA和CC脈衝(chōng)寬(kuān)度(dù): 0.0001-1000sec

CA和(hé)CC階(jiē)躍(yuè)次數(shù): 320

DPV和NPV脈衝寬度: 0.0001-10sec

SWV頻(pín)率(shuài): 0.1-100kHz

ACV頻率(shuài): 0.1-10kHz

SHACV頻率(shuài): 0.1-5kHz

自動電位和(hé)電流零位(wèi)調(tiáo)整(zhěng)

電(diàn)流測量(liáng)低通(tōng)濾(lǜ)波器,自動或(huò)手動設置,覆(fù)蓋八個數量(liáng)級的(dí)頻率(shuài)範圍(wéi)

旋轉電控(kòng)製輸出: 0-10V(430C以上(shàng)型(xíng)號(hào))

電(diàn)解(jiě)池控製(zhì)輸出(chū): 通氮,攪(jiǎo)拌(bàn),敲擊

大數據長度(dù): 256K-16384K點(diǎn)可選(xuǎn)

儀(yí)器尺寸(cùn): 37cm (寬(kuān)) x 23cm (深) x 12cm (高(gāo))

儀(yí)器重量: 3.3kg

CHI400C係(xì)列(liè)儀(yí)器不同型(xíng)號(hào)的比較(jiào):

功(gōng)能

400C

410C

420C

430C

440C

循(xún)環(huán)伏安(ān)法(fǎ)(CV)

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綫(xiàn)性(xìng)掃描伏安(ān)法(LSV)#

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階(jiē)梯(tī)波伏安法(SCV)#




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Tafel圖(TAFEL)




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計(jì)時(shí)電流法(CA)

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計時(shí)電量(liáng)法(fǎ)(CC)

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差分脈衝(chōng)伏安(ān)法(DPV)#


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常(cháng)規脈(mài)衝伏(fú)安法(NPV)#


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差分(fēn)常規脈衝伏安法(fǎ)(DNPV)#





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方波(bō)伏安法(fǎ)(SWV)#



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交流(含(hán)相敏)伏安(ān)法(ACV)#




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二(èr)次諧波交流(相敏)伏(fú)安(ān)法(fǎ)(SHACV)#




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電流(liú)-時(shí)間曲(qū)綫(i-t)




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差分脈(mài)衝(chōng)電流(liú)檢(jiǎn)測(DPA)





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雙(shuāng)差分(fēn)脈(mài)衝電流(liú)檢(jiǎn)測(DDPA)





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三脈衝電流檢(jiǎn)測(TPA)





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控製(zhì)電(diàn)位電解庫(kù)侖(lún)法(BE)

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流體力(lì)學調(tiáo)製(zhì)伏安(ān)法(fǎ)(HMV)





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掃描-階(jiē)躍(yuè)混合(hé)方法(fǎ)(SSF)





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多(duō)電位階躍(yuè)方(fāng)法(STEP)





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計(jì)時(shí)電位法(CP)





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電(diàn)流掃(sǎo)描(miáo)計時電位法(CPCR)





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多電(diàn)流(liú)階躍(ISTEP)





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電位溶出分析(PSA)





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開(kāi)路(lù)電壓-時間曲綫(OCPT)

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恒電流儀





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RDE控製(zhì)(0-10V輸出(chū))




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任意反(fǎn)應(yīng)機理CV模擬(nǐ)器




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預設(shè)反(fǎn)應機(jī)理(lǐ)CV模(mó)擬(nǐ)器(qì)

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價格(元)*

32,300

32,300

41,500

50,700

57,600

注(zhù): #:包(bāo)括(kuò)相應的譜法和(hé)溶出伏安法(fǎ).用(yòng)於(yú)譜(pǔ)法時需(xū)要特殊的靜(jìng)汞(gǒng)電或敲(qiāo)擊器.

*:價格不包括(kuò)計算(suàn)機.儀器的保(bǎo)修(xiū)期(qī)為一年(nián).



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