武漢(hàn)科思特電(diàn)化學工作站
簡(jiǎn)要描(miáo)述:武(wǔ)漢(hàn)科(kē)思(sī)特(tè)電化學工作站(zhàn)±2A電流(liú)範圍(可(kě)擴展(zhǎn)至5A,20A) ±10V電(diàn)壓範(fàn)圍(wéi)(可(kě)擴(kuò)展(zhǎn)至50V) ±21V槽(cáo)壓範(fàn)圍(可擴展至(zhì)200V) 全浮地(dì)式測量(liáng) 自(zì)由組合測試
產(chǎn)品(pǐn)型(xíng)號: CS350H
所屬分類:武漢科思特電化學(xué)工作(zuò)站
更(gēng)新(xīn)時間:2023-08-02
廠商(shāng)性(xìng)質:經(jīng)銷(xiāo)商
| 品牌 | 其他(tā)品(pǐn)牌 | 電位精度(dù) | 0.1%×滿(mǎn)量(liáng)程讀數±1mV |
|---|---|---|---|
| 恒(héng)電位(wèi)範圍(wéi) | ±2.0v | 電(diàn)流(liú)範圍 | 2nA~2AmA |
| 交流阻(zǔ)抗(kàng)頻率範(fàn)圍 | 無(wú)Hz | 電流(liú)精(jīng)度 | 0.1%×滿(mǎn)量(liáng)程讀數(shù) |
| 產地類別 | 國產 | 價格區間(jiān) | 麵(miàn)議 |
| 儀器(qì)種類 | 電化(huà)學工(gōng)作(zuò)站 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫療衛(wèi)生(shēng),化工(gōng),生(shēng)物(wù)產業,能源(yuán),電(diàn)子/電池 |
| 恒(héng)電(diàn)位(wèi)控製範(fàn)圍(wéi) | ±10V | 恒電(diàn)流(liú)控製範(fàn)圍 | ±2.0A |
| 電位控(kòng)製精(jīng)度: | 0.1%×滿量程讀(dú)數(shù)±1mV | 電流(liú)控(kòng)製精(jīng)度(dù): | 0.1%×滿量程(chéng)讀(dú)數 |
| 電位(wèi)靈敏度: | 10μV(>100Hz), 3μV(<10Hz) | 電(diàn)流(liú)靈敏度(dù): | 1pA |
| 電(diàn)位上升(shēng)時(shí)間: | ﹤1μS(<10mA),<10μS(<2A) | 電(diàn)流(liú)量程(chéng): | 2nA~2A, 共(gòng)10檔 |
| 參比(bǐ)電極(jí)輸入阻抗: | 1012Ω||20pF | 最大(dà)輸出電流(liú): | 2.0A |
| 槽(cáo)壓(yā)輸出(chū): | ±21V (可擴(kuò)展至±200V) | 電流(liú)掃描增(zēng)量: | 1mA @1A/mS |
| CV和LSV掃描速度: | 0.001mV~10000V/s | 電(diàn)位掃描電位增(zēng)量(liáng): | 0.076mV @1V/mS |
| CA和CC脈衝(chōng)寬度: | 0.0001~65000s | DPV和(hé)NPV脈衝(chōng)寬度(dù): | 0.0001~1000s |
| SWV頻(pín)率(shuài): | 0.001~100KHz | CV的最(zuì)小電(diàn)位增量: | 0.075mV |
| AD數(shù)據采(cǎi)集: | 16bit@1MHz,20bit @1KHz | 電流與電位量程(chéng): | 自動設(shè)置 |
| DA分辨率(shuài): | 16bit,建(jiàn)立時間:1μS | 低(dī)通濾波器 : | 8段可編程(chéng) |
| 通(tōng)訊(xùn)接(jiē)口: | USB2.0 | 儀(yí)器重量: | 6.5Kg |
| 外(wài)形(xíng)尺(chǐ)寸(cùn)(cm):3 | 36.4(W)X32.0(D)X16.0 (H) |
1. 產品(pǐn)介(jiè)紹
CS電(diàn)化學(xué)工作(zuò)站采(cǎi)用全浮地式設(shè)計,具有出(chū)色的穩(wěn)定(dìng)性和度,*硬(yìng)件(jiàn)和功能*的軟件,為(wéi)涉(shè)及(jí)能(néng)源,材料,生(shēng)命科學(xué),環(huán)保等領(lǐng)域的(dí)科(kē)技工作者(zhě)提供(gōng)了(liǎo)的科研平台。
應用(yòng)
(1)電(diàn)合成,電(diàn)沉積(jī)(電(diàn)鍍),陽氧化,電解(jiě)等(děng)反(fǎn)應(yīng)機理(lǐ)研(yán)究(jiū);
(2)電(diàn)化學分析(xī)研究;
(3)能(néng)源(yuán)材料(鋰離(lí)子電池,太陽(yáng)能電(diàn)池,燃(rán)料動力電(diàn)池和(hé)超級(jí)電容器(qì)等(děng)),*功(gōng)能(néng)材(cái)料以及(jí)傳感器(qì)的性能研究(jiū);
(4)金屬材料的腐蝕行為(wéi)研(yán)究(jiū)與耐蝕性(xìng)評價(jià);
(5)緩(huǎn)蝕(shí)劑(jì),水質穩定劑,塗(tú)層(céng)以及陰保護效(xiào)率的快(kuài)速評價(jià)。
硬件特點
l 雙(shuāng)通道相關分(fēn)析器和(hé)雙通道(dào)高速16bit /高精度24bit AD轉(zhuǎn)換器
l 高帶寬高輸入(rù)阻抗的(dí)放大(dà)器(qì)
l 內置FPGA DDS信(xìn)號(hào)合(hé)成器(qì)
l 高功率恒(héng)電(diàn)位儀/恒電流儀/零電阻(zǔ)電流計(jì)
l 電壓(yā)控(kòng)製(zhì)範(fàn)圍(wéi):±10V,槽壓為(wéi)±21V(可(kě)擴(kuò)展至±200V)
l 電流控製範圍(wéi):±2.0A(可擴(kuò)展(zhǎn)至(zhì)20A)
l 電(diàn)位(wèi)分辨(biàn)率:10μV,電流分辨率(shuài):1pA(可(kě)延(yán)伸至100fA)
軟件特點(diǎn)
① 數據分析
伏(fú)安曲綫的(dí)平滑,積(jī)分(fēn)和(hé)微(wēi)分運(yùn)算(suàn),計算(suàn)各氧化還原峰的(dí)峰電(diàn)流,峰電位和峰麵(miàn)積(jī)等;
化(huà)曲綫(xiàn)的三參(cān)數或(huò)四參數動(dòng)力學解(jiě)析,計算Tafel斜率(shuài)ba,bc,腐(fǔ)蝕電(diàn)流密度(dù)icorr,限(xiàn)擴(kuò)散電流(liú),化電(diàn)阻Rp和腐(fǔ)蝕速率等(děng),還(huán)可由電化(huà)學(xué)噪聲(shēng)譜計(jì)算功率譜(pǔ)密度(dù),噪聲電(diàn)阻Rn和譜噪(zào)聲(shēng)電阻Rsn(f)。
② 實(shí)時(shí)存(cún)儲
CS Studio實(shí)時存儲測量數(shù)據(jù),即(jí)使因斷(duàn)電導(dǎo)致測試(shì)中(zhōng)斷,中斷之前的數據(jù)也會(huì)自動保存(cún)。
③ 定(dìng)時(shí)測量
CS Studio測試軟件(jiàn)具有(yǒu)定時測(cè)量功(gōng)能, 對於(yú)某些需(xū)要研(yán)究體係(xì)隨(suí)時(shí)間(jiān)變(biàn)化特(tè)征(zhēng)時(shí),可(kě)提前(qián)設好(hǎo)測(cè)試(shì)參數(shù)與間隔時間,讓(ràng)儀器在無人值守下自動定時測量,為實(shí)驗提供(gōng)方便(biàn)。
技術優勢
① 化曲(qū)綫(xiàn)
具有(yǒu)綫性化(huà)和Tafel化(huà)曲綫測(cè)量功能(néng),用戶可設定循(xún)環化曲(qū)綫的陽回(huí)掃電(diàn)流(鈍(dùn)化(huà)膜擊穿電(diàn)流),來(lái)確(què)定材(cái)料(liào)的點(diǎn)蝕電位和保(bǎo)護電位,評價晶(jīng)間(jiān)腐蝕(shí)敏感性(xìng)。軟(ruǎn)件采用(yòng)非綫性擬合算法(fǎ)解析化(huà)曲綫,可用(yòng)於(yú)材料耐蝕性和緩(huǎn)蝕(shí)劑(jì)性能的(dí)快速評價。
②伏(fú)安(ān)分析
能完(wán)成綫性(xìng)掃描伏(fú)安(LSV),循環(huán)伏安(CV),階梯伏安(SCV),方(fāng)波伏安(SWV),差分脈衝伏(fú)安(DPV),交流(liú)伏安(ACV),溶出伏安等多(duō)種電(diàn)分析(xī)方(fāng)法,集成峰麵積(jī),峰電流計算和(hé)標準曲綫分析(xī)功能(néng)。
③ 電化學噪聲(shēng)
采用(yòng)高(gāo)阻跟(gēn)隨(suí)器和零(líng)阻(zǔ)電(diàn)流(liú)計測量腐蝕體係自(zì)發的電位(wèi)與(yǔ) 電流(liú)波動,可(kě)用於點(diǎn)蝕(shí),電偶腐(fǔ)蝕,縫(féng)隙(xì)腐(fǔ)蝕(shí)和應(yīng)力腐蝕開(kāi)裂(liè) 等(děng)局(jú)部腐蝕(shí)研究(jiū)。通過噪(zào)聲(shēng)譜分析,可(kě)評估亞穩態蝕點或裂(liè)紋的誘導(dǎo),生長和死(sǐ)亡(wáng)過程。基(jī)於噪聲電(diàn)阻和點蝕(shí)指(zhǐ)數計(jì)算,也可用於局部(bù)腐(fǔ)蝕(shí)監測。
④功率擴展
CS係列(liè)電化(huà)學工(gōng)作站(zhàn)的電(diàn)流(liú)控製(zhì)範圍為(wéi)±2.0A,槽壓輸出(chū)≥21V,可滿足燃(rán)料(liào)動力電池,大功率電池(chí)充(chōng)放(fàng)電(diàn),電化(huà)學(xué)電(diàn)解(jiě)或電(diàn)沉(chén)積(jī)等領(lǐng)域的(dí)需(xū)求。采用(yòng)專用的(dí)功率(shuài)擴(kuò)展器,大輸出電(diàn)流(liú)可(kě)達(dá)20A,槽(cáo)壓(yā)±200V。
⑤全(quán)浮(fú)地(dì)測量
CS係(xì)列電化學工作站采(cǎi)用(yòng)全(quán)浮地(dì)式(shì)工作(zuò)電,可用於工(gōng)作(zuò)電本身接地(dì)體(tǐ)係的(dí)電(diàn)化學研(yán)究(jiū),如(rú)用於(yú)高壓(yā)釜(fǔ)電(diàn)化(huà)學測(cè)試(shì)(釜體接(jiē)地),大地中(zhōng)金(jīn)屬構件(橋(qiáo)梁(liáng),混凝(níng)土(tǔ)鋼(gāng)筋(jīn))的在綫(xiàn)腐蝕研究等。
⑥光(guāng)電(diàn)測試模塊(kuài)
CS電化學工作站(zhàn)可以與光(guāng)強(qiáng)計,分(fēn)光(guāng)光(guāng)度(dù)計聯用,用(yòng)於光(guāng)電(diàn)化學測(cè)量,在進(jìn)行電化學測量的(dí)同(tóng)時記(jì)錄光電流或(huò)光譜響應(yīng)信號(hào)。
⑦自定(dìng)義(yì)方法
支持(chí)用戶(hù)自定義(yì)組(zǔ)合(hé)測(cè)量,用(yòng)戶(hù)可以(yǐ)設定定時循環進行(háng)某(mǒu)一測(cè)試方(fāng)法或多(duō)種方法的組合測試(shì),用於無人值守下的定時(shí)自(zì)動測量;
提供(gōng)API通(tōng)用(yòng)接口函數(shù)和開(kāi)發(fā)實(shí)例,方(fāng)便用(yòng)戶二次(cì)開發和(hé)自(zì)定義(yì)測試方(fāng)法;
提供(gōng)用戶自定(dìng)義(yì)腳本(běn)編(biān)寫(xiě)範例,用於實(shí)現您*的電化(huà)學(xué)實(shí)驗技術。
1. 技術(shù)參(cān)數
硬件參數指(zhǐ)標
恒電位控製範圍(wéi):±10V | 恒(héng)電流控(kòng)製範圍(wéi):±2.0A |
電(diàn)位(wèi)控(kòng)製(zhì)精度(dù):0.1%×滿量程讀(dú)數±1mV | 電(diàn)流(liú)控(kòng)製(zhì)精度:0.1%×滿量程(chéng)讀數 |
電位(wèi)靈(líng)敏度(dù):10μV(>100Hz), 3μV(<10Hz) | 電流(liú)靈敏度(dù):1pA |
電(diàn)位上(shàng)升時(shí)間(jiān):﹤1μS(<10mA),<10μS(<2A) | 電流量(liáng)程(chéng):2nA~2A, 共10檔(dàng) |
參比電輸(shū)入(rù)阻抗(kàng):1012Ω||20pF | 大(dà)輸出電流(liú):2.0A |
槽壓輸出:±21V (可擴(kuò)展至±200V) | 電(diàn)流掃描增(zēng)量(liáng):1mA @1A/mS |
CV和LSV掃描速(sù)度(dù):0.001mV~10000V/s | 電位(wèi)掃(sǎo)描電(diàn)位(wèi)增量:0.076mV @1V/mS |
CA和CC脈衝(chōng)寬度:0.0001~65000s | DPV和(hé)NPV脈(mài)衝寬(kuān)度:0.0001~1000s |
SWV頻率(shuài):0.001~100KHz | CV的小電位(wèi)增量:0.075mV |
AD數據采集(jí):16bit@1MHz,20bit @1KHz | 電(diàn)流與電(diàn)位量程:自動(dòng)設置 |
DA分(fēn)辨率(shuài):16bit,建(jiàn)立時間:1μS | 低通(tōng)濾(lǜ)波器(qì) :8段可(kě)編程(chéng) |
通訊(xùn)接(jiē)口:USB2.0 | 儀器重(zhòng)量:6.5Kg |
外形(xíng)尺(chǐ)寸(cm):36.4(W)X32.0 (D)X16.0 (H) |
配置
1)儀器主機(jī)1台(tái)
2)CS Studio測試與分(fēn)析(xī)軟(ruǎn)件1套(tào)
3)模擬電解池1個
4)電源綫(xiàn)/USB數據綫各(gè)1條
5)電電(diàn)纜綫1條(tiáo)
6)電(diàn)腦(nǎo)(選配*)
2. 功能(néng)方法(fǎ)
CS單(dān)通道係列不同型號(hào)功(gōng)能方法(fǎ)比(bǐ)較(jiào)
功能(néng)方法(fǎ) | CS150H | CS300H | CS310H | CS350H | |
穩態化 | 開路電位(OCP) | ● | ● | ● | ● |
恒(héng)電位化(huà)(i-t曲綫) | ● | ● | ● | ● | |
恒(héng)電(diàn)流化 | ● | ● | ● | ● | |
動電(diàn)位掃描(Tafel曲綫(xiàn)) | ● | ● | ● | ● | |
動(dòng)電流掃描(miáo)(DGP) | ● | ● | ● | ● | |
電位(wèi)掃描-階(jiē)躍 | ● | ||||
暫態(tài)化 | 任(rèn)意(yì)恒電位(wèi)階梯波 | ● | ● | ● | ● |
任(rèn)意恒電流階梯波(bō) | ● | ● | ● | ● | |
恒電(diàn)位階(jiē)躍(VSTEP) | ● | ● | ● | ● | |
恒電流階躍(yuè)(ISTEP) | ● | ● | ● | ● | |
計(jì)時(shí)分析 | 計時電位法(CP) | ● | ● | ● | |
計時(shí)電流法(CA) | ● | ● | ● | ||
計(jì)時(shí)電量(liáng)法(CC) | ● | ● | ● | ||
伏(fú)安(ān)分(fēn)析 | 綫性掃(sǎo)描(miáo)伏(fú)安(ān)(LSV) | ● | ● | ● | ● |
綫(xiàn)性(xìng)循環伏安(CV) | ● | ● | ● | ● | |
階(jiē)梯循(xún)環(huán)伏安(ān)(SCV) | ● | ● | |||
方(fāng)波(bō)伏安(SWV) | ● | ● | |||
差(chà)分(fēn)脈(mài)衝伏(fú)安(DPV) | ● | ● | |||
常規脈衝伏(fú)安(ān)(NPV) | ● | ● | |||
差(chà)分(fēn)常(cháng)規(guī)脈衝伏(fú)安(ān)(DNPV) | ● | ● | |||
交流(liú)伏安(ACV) | ● | ● | |||
二次諧波交流(liú)伏(fú)安(ān)(SHACV) | ● | ● | |||
傅裏(lǐ)葉變(biàn)換(huàn)交(jiāo)流(liú)伏安(ān)(FTACV) | ● | ● | |||
電流(liú)檢(jiǎn)測(cè) | 差分(fēn)脈衝電(diàn)流(liú)檢(jiǎn)測(DPA) | ● | |||
雙差分(fēn)脈衝(chōng)電流(liú)檢測(cè)(DDPA) | ● | ||||
三(sān)脈(mài)衝(chōng)電(diàn)流(liú)檢(jiǎn)測(cè)(TPA) | ● | ||||
積(jī)分(fēn)脈衝(chōng)電流(liú)檢(jiǎn)測(IPAD) | ● | ||||
溶出伏安 | 電位溶(róng)出(chū)分析(xī)(PSA) | ● | ● | ||
綫(xiàn)性掃描溶(róng)出(chū)伏(fú)安(ān)(LSSV) | ● | ● | |||
階梯溶出(chū)伏安(SCSV) | ● | ● | |||
方波(bō)溶(róng)出伏(fú)安(ān)(SWSV) | ● | ● | |||
差(chà)分(fēn)脈(mài)衝(chōng)溶出伏安(DPSV) | ● | ● | |||
常規脈(mài)衝溶(róng)出伏(fú)安(NPSV) | ● | ● | |||
差(chà)分(fēn)常(cháng)規(guī)脈(mài)衝溶(róng)出伏(fú)安(ān)(DNPSV) | ● | ● | |||
交流阻抗(kàng) | 阻(zǔ)抗-頻率掃(sǎo)描 | ● | ● | ||
阻(zǔ)抗-時間掃(sǎo)描 | ● | ● | |||
阻(zǔ)抗-電(diàn)位掃描(miáo)(Mott-Schottky 曲綫) | ● | ● | |||
充(chōng)放(fàng)電(diàn)測(cè)試(shì) | 電池(chí)充放電(diàn) | ● | ● | ● | ● |
恒電流充(chōng)放電(diàn)(GCD) | ● | ● | ● | ● | |
恒(héng)電位充(chōng)放(fàng)電 | ● | ● | ● | ● | |
恒電位(wèi)間歇滴定(dìng)技(jì)術(PITT) | ● | ● | ● | ● | |
恒電流間歇滴定技術(shù)(GITT) | ● | ● | ● | ● | |
雙恒(héng)測量(liáng) | 氫擴散測試(HDT) | ||||
盤環電(diàn)測(cè)試(shì) | |||||
擴展(zhǎn)測量 | 電(diàn)化學噪聲(EN) | ● | ● | ● | ● |
數(shù)字記錄(lù)儀(yí) | ● | ● | ● | ● | |
電化學(xué)溶解(jiě)/沉積 | ● | ● | ● | ● | |
控製電位電(diàn)解(jiě)庫(kù)倫法(BE) | ● | ● | ● | ● | |
動(dòng)電位(wèi)再活(huó)化法(EPR) | ● | ● | ● | ● | |
溶(róng)液電(diàn)阻測量 | ● | ● | ● | ● | |
循環化(huà)曲綫(xiàn)(CPP) | ● | ● | ● | ● | |
注(zhù):
*氫擴散及旋轉(zhuǎn)盤環電測(cè)試(shì)需配置(zhì)CS1002恒電位/恒電(diàn)流(liú)儀或采(cǎi)用(yòng)CS2350雙(shuāng)恒(héng)電(diàn)位(wèi)儀。
*光電(diàn)測(cè)量(liáng)功(gōng)能用戶選(xuǎn)配。
*產品(pǐn)3年質保。




您(nín)的位置:
