武(wǔ)漢(hàn)科思特(tè)電(diàn)化學(xué)工(gōng)作站(zhàn)
簡要描(miáo)述:武漢科思特(tè)電化學工(gōng)作站(zhàn)CS310H采用全浮(fú)地式(shì)設計(jì),具(jù)有出色(sè)的(dí)穩(wěn)定(dìng)性(xìng)和度(dù),硬件(jiàn)和(hé)功(gōng)能(néng)*的軟(ruǎn)件,為涉(shè)及(jí)能(néng)源(yuán),材料,生命(mìng)科(kē)學,環保等領域的(dí)科技(jì)工(gōng)作者提供了(liǎo)的科(kē)研平(píng)台。
產品(pǐn)型號: CS310H
所(suǒ)屬(shǔ)分(fēn)類(lèi):武漢科思特(tè)電化學(xué)工作(zuò)站(zhàn)
更新(xīn)時間:2024-10-10
廠商(shāng)性(xìng)質(zhì):經(jīng)銷商(shāng)
| 品牌 | CorrTest/科(kē)思(sī)特 | 電位精(jīng)度 | 0.1%×滿(mǎn)量(liáng)程(chéng)讀數±1mV |
|---|---|---|---|
| 恒(héng)電(diàn)位範圍 | ±2.0v | 電流(liú)範圍 | 2nA~2AmA |
| 交(jiāo)流(liú)阻抗(kàng)頻率(shuài)範圍 | 無(wú)Hz | 電(diàn)流精度 | 0.1%×滿(mǎn)量程讀數 |
| 產地類別 | 國(guó)產 | 價(jià)格區(qū)間 | 麵議 |
| 儀器(qì)種類(lèi) | 電化(huà)學工作站 | 應用領域 | 醫(yī)療(liáo)衛生,化(huà)工(gōng),生(shēng)物產(chǎn)業,能(néng)源,電子/電池 |
| 恒(héng)電(diàn)位控(kòng)製(zhì)範(fàn)圍 | ±10V | 恒電流控製範圍 | ±2.0A |
| 電(diàn)位控(kòng)製(zhì)精(jīng)度(dù) | 0.1%×滿(mǎn)量程讀(dú)數±1mV | 電流(liú)控製精度 | 0.1%×滿(mǎn)量程(chéng)讀數 |
| 電位靈敏(mǐn)度(dù) | 10μV(>100Hz), 3μV(<10Hz) | 電流靈敏度 | 1pA |
| 電(diàn)位上(shàng)升時(shí)間(jiān) | ﹤1μS(<10mA),<10μS(<2A) | 電(diàn)流量程 | 2nA~2A, 共10檔(dàng) |
| 參比(bǐ)電(diàn)極輸(shū)入(rù)阻(zǔ)抗(kàng) | 1012Ω||20pF | 最(zuì)大輸出電流(liú) | 2.0A |
| 槽(cáo)壓輸出 | ±21V (可擴展至±200V) | 電(diàn)流掃描增(zēng)量 | 1mA @1A/mS |
| CV和LSV掃(sǎo)描速度 | 0.001mV~10000V/s | 電位掃(sǎo)描電位(wèi)增量(liáng) | 0.076mV @1V/mS |
| CA和CC脈(mài)衝寬度 | 0.0001~65000s | DPV和NPV脈(mài)衝寬(kuān)度 | 0.0001~1000s |
| SWV頻率 | 0.001~100KHz | CV的最小(xiǎo)電位(wèi)增量 | 0.075mV |
| AD數(shù)據(jù)采集 | 16bit@1MHz,20bit @1KHz | 電流與電(diàn)位(wèi)量(liáng)程 | 自動設置 |
| DA分辨(biàn)率(shuài) | 16bit | 建立(lì)時間 | 1μS |
| 低通濾波(bō)器 | 8段可編程 | 通(tōng)訊接口 | USB2.0 |
| 儀器(qì)重量(liáng) | 6.5Kg | 外(wài)形(xíng)尺(chǐ)寸(cm) | 36.4(W)X32.0 (D)X16.0 (H) |
一(yī),產品介紹(shào)
武漢科思特電化(huà)學(xué)工作(zuò)站采用(yòng)全(quán)浮地式(shì)設計,具有出色(sè)的(dí)穩(wěn)定性和度(dù),硬件(jiàn)和功能*的軟件,為涉及能源(yuán),材料(liào),生(shēng)命科(kē)學,環保等(děng)領(lǐng)域(yù)的科技工作(zuò)者提供了的科(kē)研(yán)平(píng)台。
1,應(yīng)用:
(1)電(diàn)合(hé)成,電沉積(電鍍),陽(yáng)氧(yǎng)化(huà),電解等反(fǎn)應機理(lǐ)研(yán)究;
(2)電(diàn)化學分析(xī)研(yán)究;
(3)能源材(cái)料(liào)(鋰離(lí)子(zǐ)電(diàn)池(chí),太(tài)陽能電池(chí),燃(rán)料動(dòng)力電(diàn)池(chí)和超級電容器等(děng)),*功能材料(liào)以(yǐ)及(jí)傳(chuán)感器的(dí)性能(néng)研(yán)究;
(4)金屬(shǔ)材(cái)料的(dí)腐蝕行為研究與(yǔ)耐蝕(shí)性評價(jià);
(5)緩(huǎn)蝕劑,水質(zhì)穩定(dìng)劑(jì),塗層(céng)以(yǐ)及(jí)陰保護(hù)效率的快速(sù)評價。
2,硬件(jiàn)特點:
雙(shuāng)通道(dào)相關分析(xī)器(qì)和(hé)雙通(tōng)道高速(sù)16bit/高精度24bit AD轉換器(qì)
高(gāo)帶(dài)寬高輸入(rù)阻(zǔ)抗的放(fàng)大(dà)器
內置FPGA DDS信號(hào)合成器(qì)
高功率恒(héng)電位儀/恒電流(liú)儀/零電(diàn)阻電流計
電壓(yā)控製範圍(wéi):±10V,槽壓(yā)為±21V(可擴展至±200V)
電流控(kòng)製範圍:±2.0A(可(kě)擴展至(zhì)20A)
電位(wèi)分辨率:10μV,電流(liú)分(fēn)辨(biàn)率(shuài):1pA(可延伸至100fA)
3,軟(ruǎn)件特(tè)點:
①數據分(fēn)析(xī)
伏(fú)安曲(qū)綫的平(píng)滑(huá),積分和微(wēi)分運(yùn)算(suàn),計算各氧(yǎng)化還原峰的峰電流,峰電位和(hé)峰(fēng)麵(miàn)積(jī)等;
化曲綫(xiàn)的三參數或四(sì)參(cān)數動力學解(jiě)析(xī),計算Tafel斜(xié)率ba,bc,腐蝕(shí)電(diàn)流密度icorr,限(xiàn)擴(kuò)散電流(liú),化(huà)電阻Rp和(hé)腐(fǔ)蝕(shí)速率(shuài)等(děng),還可(kě)由(yóu)電化(huà)學噪聲(shēng)譜計算功率譜密(mì)度(dù),噪聲電(diàn)阻Rn和譜噪聲(shēng)電阻Rsn(f)。
②實時存儲
CS Studio實時存儲(chǔ)測(cè)量數據(jù),即使因(yīn)斷電(diàn)導致(zhì)測(cè)試中斷,中(zhōng)斷之前(qián)的(dí)數(shù)據也(yě)會自動保(bǎo)存。
③定(dìng)時測量
CS Studio測試(shì)軟件具有定(dìng)時測量功(gōng)能(néng),對(duì)於某些(xiē)需(xū)要(yào)研究體係隨時間變(biàn)化特征(zhēng)時(shí),可(kě)提前設(shè)好測試(shì)參數與間(jiān)隔(gé)時間,讓儀(yí)器在(zài)無(wú)人(rén)值守下自動(dòng)定(dìng)時測量(liáng),為實驗(yàn)提供方(fāng)便。
4,技(jì)術優勢:
①化曲綫
具(jù)有(yǒu)綫性(xìng)化和Tafel化(huà)曲綫(xiàn)測量(liáng)功能,用戶可設(shè)定循(xún)環(huán)化(huà)曲綫的陽(yáng)回(huí)掃電流(鈍化膜擊(jī)穿電流),來(lái)確定材料的(dí)點蝕電(diàn)位和保(bǎo)護(hù)電位,評(píng)價(jià)晶間腐蝕敏感性(xìng)。軟件(jiàn)采用(yòng)非(fēi)綫性擬(nǐ)合算法解(jiě)析化曲(qū)綫(xiàn),可用(yòng)於(yú)材料(liào)耐蝕(shí)性(xìng)和(hé)緩蝕劑性能(néng)的快(kuài)速評(píng)價(jià)。
②伏安(ān)分析
能完成(chéng)綫性掃描(miáo)伏(fú)安(LSV),循環伏(fú)安(CV),階梯伏(fú)安(SCV),方(fāng)波伏安(ān)(SWV),差(chà)分(fēn)脈衝(chōng)伏安(DPV),交流伏(fú)安(ACV),溶(róng)出(chū)伏安(ān)等多種電分(fēn)析方(fāng)法(fǎ),集成(chéng)峰(fēng)麵積,峰電流(liú)計算和(hé)標(biāo)準(zhǔn)曲綫分析功(gōng)能。
③電(diàn)化(huà)學噪聲
武漢科思特電(diàn)化學(xué)工(gōng)作(zuò)站(zhàn)采用高阻(zǔ)跟隨(suí)器(qì)和零阻電流(liú)計測量腐蝕體(tǐ)係自(zì)發的(dí)電(diàn)位與(yǔ)電流(liú)波動(dòng),可用於點蝕(shí),電(diàn)偶腐(fǔ)蝕,縫隙腐蝕(shí)和應力腐(fǔ)蝕(shí)開裂等(děng)局部腐(fǔ)蝕研究(jiū)。通過噪(zào)聲譜分析,可(kě)評估亞穩(wěn)態(tài)蝕(shí)點(diǎn)或(huò)裂(liè)紋(wén)的誘導,生長(cháng)和死亡過程。基於噪聲電(diàn)阻和點蝕指數(shù)計算,也(yě)可(kě)用(yòng)於(yú)局(jú)部(bù)腐(fǔ)蝕監測(cè)。
④功(gōng)率擴(kuò)展(zhǎn)
CS係列電化學工作(zuò)站的(dí)電流(liú)控製範圍為(wéi)±2.0A,槽壓(yā)輸出(chū)≥21V,可滿足燃料動力(lì)電池(chí),大功率(shuài)電(diàn)池充放電,電(diàn)化學電(diàn)解或電沉積等領(lǐng)域的需(xū)求。采(cǎi)用(yòng)專用的(dí)功率(shuài)擴展器(qì),大輸出電(diàn)流(liú)可(kě)達(dá)20A,槽(cáo)壓(yā)±200V。
⑤全(quán)浮地(dì)測(cè)量
CS係(xì)列(liè)電(diàn)化學工(gōng)作站采(cǎi)用全(quán)浮(fú)地式工作電(diàn),可用(yòng)於工作電(diàn)本身(shēn)接地(dì)體係的電化(huà)學(xué)研究(jiū),如用於(yú)高(gāo)壓(yā)釜電(diàn)化學測試(釜(fǔ)體接地(dì)),大地中金(jīn)屬構(gòu)件(橋梁,混凝土(tǔ)鋼(gāng)筋)的在(zài)綫腐蝕(shí)研(yán)究等。
⑥光電(diàn)測試模塊(kuài)
CS電(diàn)化學工作站可以(yǐ)與光強(qiáng)計,分(fēn)光(guāng)光(guāng)度計聯(lián)用(yòng),用(yòng)於光電(diàn)化學(xué)測量,在(zài)進行電(diàn)化學測量的同(tóng)時記(jì)錄(lù)光(guāng)電(diàn)流或(huò)光譜(pǔ)響應(yīng)信號。
⑦自(zì)定義方(fāng)法(fǎ)
支(zhī)持用戶(hù)自(zì)定義組合測量,用戶可(kě)以設定(dìng)定時(shí)循環(huán)進行某一(yī)測(cè)試方(fāng)法(fǎ)或(huò)多(duō)種方(fāng)法的組合測(cè)試(shì),用於(yú)無(wú)人(rén)值守下的(dí)定(dìng)時(shí)自動測量;
提供API通(tōng)用(yòng)接口(kǒu)函數和(hé)開(kāi)發實例(lì),方(fāng)便用戶(hù)二次(cì)開發(fā)和自定義(yì)測試方(fāng)法(fǎ);
提供用戶自定義腳本(běn)編寫(xiě)範(fàn)例,用(yòng)於實現(xiàn)您*的電化學實驗(yàn)技(jì)術。
5,技術(shù)參數:
硬件(jiàn)參(cān)數指標(biāo)
恒(héng)電(diàn)位控(kòng)製範圍:±10V | 恒(héng)電(diàn)流控製範圍(wéi):±2.0A |
電(diàn)位控(kòng)製(zhì)精度:0.1%×滿(mǎn)量程(chéng)讀數(shù)±1mV | 電流控(kòng)製(zhì)精度:0.1%×滿量程讀(dú)數 |
電位靈敏度:10μV(>100Hz),3μV(<10Hz) | 電流靈(líng)敏(mǐn)度:1pA |
電位(wèi)上(shàng)升(shēng)時間(jiān):﹤1μS(<10mA),<10μS(<2A) | 電(diàn)流量程(chéng):2nA~2A,共10檔 |
參(cān)比(bǐ)電輸(shū)入阻(zǔ)抗(kàng):1012Ω||20pF | 大輸出電(diàn)流(liú):2.0A |
槽壓輸(shū)出(chū):±21V(可擴展至±200V) | 電流(liú)掃描(miáo)增量(liáng):1mA@1A/mS |
CV和(hé)LSV掃描(miáo)速度(dù):0.001mV~10000V/s | 電(diàn)位(wèi)掃描(miáo)電(diàn)位(wèi)增量(liáng):0.076mV@1V/mS |
CA和CC脈(mài)衝(chōng)寬度:0.0001~65000s | DPV和(hé)NPV脈衝(chōng)寬度:0.0001~1000s |
SWV頻(pín)率:0.001~100KHz | CV的小電(diàn)位(wèi)增量:0.075mV |
AD數據采(cǎi)集(jí):16bit@1MHz,20bit@1KHz | 電流(liú)與電(diàn)位量程(chéng):自動(dòng)設置(zhì) |
DA分辨(biàn)率:16bit,建(jiàn)立時(shí)間:1μS | 低(dī)通濾波器:8段可(kě)編程 |
通訊接(jiē)口(kǒu):USB2.0 | 儀器重量:6.5Kg |
外形(xíng)尺(chǐ)寸(cm):36.4(W)X32.0(D)X16.0(H) |
配置(zhì):
1)儀器主機1台(tái)
2)CS Studio測試與分(fēn)析軟件1套
3)模擬(nǐ)電(diàn)解(jiě)池1個(gè)
4)電源綫/USB數據(jù)綫各(gè)1條
5)電(diàn)電纜(lǎn)綫1條(tiáo)
6)電(diàn)腦(nǎo)(選配*)
二(èr),功(gōng)能方(fāng)法(fǎ)
CS單(dān)通道(dào)係列不同(tóng)型(xíng)號功能方(fāng)法比較
功能方法 | CS150H | CS300H | CS310H | CS350H | |
穩(wěn)態化 | 開(kāi)路(lù)電(diàn)位(OCP) | ● | ● | ● | ● |
恒(héng)電(diàn)位(wèi)化(i-t曲綫(xiàn)) | ● | ● | ● | ● | |
恒電(diàn)流化 | ● | ● | ● | ● | |
動電位掃描(miáo)(Tafel曲(qū)綫(xiàn)) | ● | ● | ● | ● | |
動電(diàn)流(liú)掃描(miáo)(DGP) | ● | ● | ● | ● | |
電位(wèi)掃(sǎo)描-階躍 | ● | ||||
暫態(tài)化 | 任意恒電位(wèi)階梯波(bō) | ● | ● | ● | ● |
任(rèn)意(yì)恒(héng)電(diàn)流階梯(tī)波(bō) | ● | ● | ● | ● | |
恒電位階躍(VSTEP) | ● | ● | ● | ● | |
恒電流(liú)階躍(ISTEP) | ● | ● | ● | ● | |
計時分析 | 計時電(diàn)位法(fǎ)(CP) | ● | ● | ● | |
計時電(diàn)流法(CA) | ● | ● | ● | ||
計時電量法(fǎ)(CC) | ● | ● | ● | ||
伏安(ān)分(fēn)析(xī) | 綫(xiàn)性掃(sǎo)描伏安(LSV) | ● | ● | ● | ● |
綫性循(xún)環伏(fú)安(CV) | ● | ● | ● | ● | |
階(jiē)梯(tī)循環伏(fú)安(SCV) | ● | ● | |||
方(fāng)波(bō)伏安(SWV) | ● | ● | |||
差(chà)分(fēn)脈衝(chōng)伏安(DPV) | ● | ● | |||
常規脈衝伏(fú)安(ān)(NPV) | ● | ● | |||
差(chà)分常規(guī)脈衝伏(fú)安(ān)(DNPV) | ● | ● | |||
交(jiāo)流伏安(ān)(ACV) | ● | ● | |||
二次諧(xié)波交流伏安(ān)(SHACV) | ● | ● | |||
傅裏(lǐ)葉(yè)變(biàn)換(huàn)交流伏安(ān)(FTACV) | ● | ● | |||
電流檢(jiǎn)測(cè) | 差分脈(mài)衝電(diàn)流檢測(DPA) | ● | |||
雙差分(fēn)脈衝(chōng)電流檢測(cè)(DDPA) | ● | ||||
三脈衝電流(liú)檢測(TPA) | ● | ||||
積分(fēn)脈衝(chōng)電(diàn)流檢(jiǎn)測(IPAD) | ● | ||||
溶出(chū)伏(fú)安(ān) | 電位(wèi)溶出分析(PSA) | ● | ● | ||
綫性掃描(miáo)溶(róng)出(chū)伏安(ān)(LSSV) | ● | ● | |||
階(jiē)梯溶出伏安(SCSV) | ● | ● | |||
方(fāng)波溶出(chū)伏安(ān)(SWSV) | ● | ● | |||
差分(fēn)脈(mài)衝溶(róng)出伏安(DPSV) | ● | ● | |||
常規(guī)脈衝溶(róng)出伏安(NPSV) | ● | ● | |||
差(chà)分常規脈衝(chōng)溶(róng)出伏安(DNPSV) | ● | ● | |||
交(jiāo)流阻抗 | 阻抗-頻率掃描 | ● | ● | ||
阻抗(kàng)-時間(jiān)掃(sǎo)描 | ● | ● | |||
阻(zǔ)抗(kàng)-電位(wèi)掃(sǎo)描(miáo)(Mott-Schottky曲(qū)綫(xiàn)) | ● | ● | |||
充(chōng)放電測試 | 電(diàn)池充(chōng)放(fàng)電 | ● | ● | ● | ● |
恒(héng)電(diàn)流充(chōng)放(fàng)電(diàn)(GCD) | ● | ● | ● | ● | |
恒電位(wèi)充放(fàng)電(diàn) | ● | ● | ● | ● | |
恒電(diàn)位(wèi)間歇滴定(dìng)技術(shù)(PITT) | ● | ● | ● | ● | |
恒(héng)電流(liú)間歇(xiē)滴定技(jì)術(GITT) | ● | ● | ● | ● | |
雙(shuāng)恒測量 | 氫(qīng)擴(kuò)散測(cè)試(HDT) | ||||
盤環(huán)電(diàn)測(cè)試(shì) | |||||
擴展測(cè)量 | 電(diàn)化學噪(zào)聲(EN) | ● | ● | ● | ● |
數(shù)字記錄(lù)儀(yí) | ● | ● | ● | ● | |
電化(huà)學(xué)溶解/沉積(jī) | ● | ● | ● | ● | |
控(kòng)製(zhì)電位電(diàn)解庫(kù)倫法(BE) | ● | ● | ● | ● | |
動(dòng)電(diàn)位再(zài)活化法(EPR) | ● | ● | ● | ● | |
溶液(yè)電(diàn)阻(zǔ)測量 | ● | ● | ● | ● | |
循環化曲綫(xiàn)(CPP) | ● | ● | ● | ● | |
注:
*氫擴散(sàn)及旋轉盤(pán)環(huán)電測(cè)試需配(pèi)置CS1002恒電(diàn)位/恒電流儀或采用CS2350雙(shuāng)恒(héng)電位(wèi)儀(yí)。
*光電(diàn)測量功能(néng)用戶(hù)選配(pèi)。
*產品(pǐn)3年質(zhì)保。




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